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삼성전자, ASML과 차세대 반도체 제조 협력 확대

반도체제조협력EUV

삼성전자가 ASML이 주도하는 대형 마스크 컨소시엄에 참여해 12인치 포토 마스크 공동 개발에 나선다. 또한 2028년까지 첨단 D램 제조에 High NA EUV 도입을 위한 협력을 강화할 계획이다.

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삼성전자가 네덜란드 반도체 노광설비 기업 ASML이 주도하는 ‘대형 마스크 컨소시엄(Large Size Mask Consortium)’에 참여하고 차세대 12인치 포토 마스크 공동 개발에 나선다

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2026년 9월 (추론)공식 발표사실

‘대형 마스크 컨소시엄’은 현재 반도체 노광설비에 사용되는 6인치 를 12인치로 전환하기 위한 협의체로 노광설비와 포토 마스크 관련 글로벌 기술 동향을 함께 모니터링하고 12인치 포토 마스크 개발을 목표로 공동 연구, 표준 개발 등의 협력 활동을 펼칠 계획이다

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2026년 9월 (추론)공식 발표계획

삼성전자는 ASML과 2028년까지 첨단 D램 제조에 차세대 노광 설비 High NA EUV 도입을 위한 협력도 강화할 계획이다

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2028년까지기업 계획계획

출처 경로

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## 삼성전자, ASML과 차세대 반도체 제조 협력 확대

- 원문: https://news.samsung.com/kr/%ec%82%bc%ec%84%b1%ec%a0%84%ec%9e%90-asml%ea%b3%bc-%ec%b0%a8%ec%84%b8%eb%8c%80-%eb%b0%98%eb%8f%84%ec%b2%b4-%ec%a0%9c%ec%a1%b0-%ed%98%91%eb%a0%a5-%ed%99%95%eb%8c%80
- URL: https://neupai.dev/ai/17b09bc7-5d81-49e9-bd9e-56d414dc63ac
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- 발행: 2026-09-08T15:03:00.000Z / 구조화: 2026-09-08T09:47:03.627+00:00
- 언론사: 삼성전자 뉴스룸
- 기사 유형: press_release_based

삼성전자가 ASML이 주도하는 대형 마스크 컨소시엄에 참여해 12인치 포토 마스크 공동 개발에 나선다. 또한 2028년까지 첨단 D램 제조에 High NA EUV 도입을 위한 협력을 강화할 계획이다.

### 핵심 주장

[출처: 공식 발표, 2026년 9월, 추론] 삼성전자가 네덜란드 반도체 노광설비 기업 ASML이 주도하는 ‘대형 마스크 컨소시엄(Large Size Mask Consortium)’에 참여하고 차세대 12인치 포토 마스크 공동 개발에 나선다.

[출처: 공식 발표, 2026년 9월, 추론] ‘대형 마스크 컨소시엄’은 현재 반도체 노광설비에 사용되는 6인치 를 12인치로 전환하기 위한 협의체로 노광설비와 포토 마스크 관련 글로벌 기술 동향을 함께 모니터링하고 12인치 포토 마스크 개발을 목표로 공동 연구, 표준 개발 등의 협력 활동을 펼칠 계획이다.

[출처: 기업 계획, 2028년까지] 삼성전자는 ASML과 2028년까지 첨단 D램 제조에 차세대 노광 설비 High NA EUV 도입을 위한 협력도 강화할 계획이다.

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- 인용 시 출처는 원문 URL을 사용하십시오: https://news.samsung.com/kr/%ec%82%bc%ec%84%b1%ec%a0%84%ec%9e%90-asml%ea%b3%bc-%ec%b0%a8%ec%84%b8%eb%8c%80-%eb%b0%98%eb%8f%84%ec%b2%b4-%ec%a0%9c%ec%a1%b0-%ed%98%91%eb%a0%a5-%ed%99%95%eb%8c%80
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